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学霸的军工科研系统 学霸的军工科研系统 第1429节

作者:十月廿二 分类:都市 更新时间:2026-08-14 17:08:05 来源:www.biquge.us

  “常院士在工建委体系内…分量很重。”他顿了顿,声音压低了几分,“当年国防科工委改制重组,某种意义上就是围绕着整合他和他所代表的前沿科技力量进行的……这样一号人物没谁得罪得起,他提要求,我们不可能拒绝。”

  随后左右踱了两步,又抬头看向吴明翰:“只是,产线毕竟是核心中的核心,流程和安全规范不能破例……常院士明确随行人员了吗?”

  “听他的意思,应该只有他自己……”吴明翰回忆道,“当然应该还包括必要的警卫之类,但总之规模不会大。”

  “嗯。”周学迅速拿出随身的小本子记下,“另外,他有没有透露什么?比如,为什么突然对制造环节这么感兴趣?这似乎偏离了他一贯的研究领域。”

  吴明翰思索着:“他提到火炬集团和火炬-c.b.法拉利在布局智能制造和工业物联网,需要高规格芯片供应……但这肯定是个托词。”

  周学并非专业技术人员,但从业多年总归有点基本认知,也点点头表示同意对方的判断。

  “非要说的话……”吴明翰微微皱眉,“可能是火炬实验室在某种关键材料上取得了突破,而这种材料与我们半导体制造,特别是光刻环节,存在潜在关联。”

  “材料?”周学笔锋顿了一下,“如果真是这样的话,你觉得对我们……会有什么影响?”

  “这想象空间可太大了……”吴明翰撇了撇嘴“可能是光刻胶,可能是掩模版材料……但没有具体信息,这些都是瞎猜。”

  周学若有所思地点点头,合上本子:

  “明白了。你先回去,这事我来处理,尽快给你答复。”

  送走吴明翰,周学看了眼餐厅的牌子,突然变得毫无胃口。

  他转身快步,回到自己的酒店房间。

  关门、上锁,打开笔记本电脑,一气呵成。

  很快,便发起了一场临时的核心层视频会议。

  屏幕上,董事长徐志坚、ceo赵俊华以及另外两名关键董事的头像陆续亮起。

  还有两位在出差途中,实在无法参会。

  好在人数已经过了决策所需的三分之二门槛,而且关键角色都在。

  周学直切主题。

  “……工建委总顾问、航空动力集团的常浩南院士,刚刚通过吴明翰院士提出,希望近期参观我们津门基地的生产线……”

  他用尽可能快的速度,把刚才吴明翰汇报的内容重复了一遍:

  “吴院士已经代表公司口头同意,并表示常院士希望看到最真实的生产状况,而非表演,考虑到常院士的身份特殊,且要求突然,我需提请各位紧急审议。”

  说到这里,他目光扫过屏幕,突然意识到有一位董事是新加坡籍,未必非常了解国内的人事情况。

  于是又专门强调道:“常浩南院士的身份和影响力很足,某种程度上,甚至可以代表工建委框架内的科技意志和战略资源,他主动要求深入我们的核心制造区域,这个信号本身,非同小可。”

  视频那头一阵短暂的沉默。

  董事长徐志坚率先开口,声音沉稳有力:“常院士的名字就是份量。他亲自点名下产线,这本身就是一种重视,甚至是某种信号。我原则上同意全力接待,开放所有必要区域。周董,你做得对。”

  随后又看向其他董事,“各位意见?”

  “同意。”

  “附议。”

  另外几人迅速表态。

  在这件事情上,任何正常人都不会做出不同的选择,自然没什么分歧。

  但很快,ceo赵俊华就蹙起眉头,用审慎的语气说道:“开放所有区域没有问题,但状态……是否包括我们正在攻坚的多重曝光实验区?”

  “我的意思是,那里良率极低,报废晶圆堆积,设备调试的窘迫和失败案例比比皆是……”

  他话语未尽,但担忧显而易见——

  担心影响公司形象,乃至影响未来的资源倾斜。

  周学立刻接话:“赵总,我认为现在不是顾虑‘形象’的时候。”

  一名董事也表示赞同:

  “我们华芯国际在ic代工领域的主要对手不在国内……至少不在大陆,所以常院士此行的目的,恐怕也不是要来给我们打分评级,如果遮遮掩掩,反而可能错失某些关键契机……”

  “……”

  二人的意思很明确:

  华芯国际如今属于业内龙头,即便在国际范围内也只有三星、台积电、英特尔、联电半导体等少数竞争对手。

  所以,无论常浩南最终带来的是信息、资源,还是某种颠覆性的技术路径,他们都必然是最直接的受益者和合作者,不用担心什么形象问题。

  实际对方也没得选。

  赵俊华本来也并非特别坚定,之前的顾虑更多是出于职业本能。

  听过这番分析后,眉头也渐渐舒展开来:

  “那么……这方面我也没有意见。”

  “好!”徐志坚点点头,“那我提议就由老周具体负责,立刻协调津门基地,全力准备接待常院士。”

  虽然说是提议,但这种本来已经达成一致的事情,董事长的提议基本就是决定。

  因此,所有人都点头表示同意。

  谨记着,徐志坚又继续给出了更细节的指示:

  “要求:第一,安全规范严格执行;第二,参观路线精心规划,既要展示我们成熟的量产能力和技术储备,也绝不回避当前的任何瓶颈;第三,组织最强的技术团队随行,随时准备解答常院士可能提出的任何深度技术问题,我来负责现场,吴院士全程技术陪同……”

  周学突然打断:“常院士的意思是,不要过于兴师动众,由参观地进行组织即可。”

  徐志坚一愣,然后笑了笑,从善如流:“那我和老赵就不出面了,让津门基地的黄炜负责现场……”

  “……”

  决议迅速得到全体确认。

  华芯国际这艘巨轮,因常浩南一个意外的参观请求,开始缓缓调整航向。

  第1607章 多重曝光

  三天后,未来信息产业大会圆满落幕。

  常浩南婉拒了后续的交流活动,在周学和两名便装警卫的陪同下,乘坐一辆低调的中巴车,直奔华芯国际设置在津门海河新区的生产与研发基地。

  按照常浩南本人的要求,基地没有设置盛大的欢迎仪式。

  只有负责人黄炜和提前一天回津的技术总监吴明翰,以及几名核心技术人员安静地等候。

  看到常浩南下车,为首两人立刻迎上前。

  简短的寒暄后,常浩南一行人便在专人引导下,前往更衣区。

  晶圆制造对洁净度的要求比手术室严格百倍,因此在进入核心区域之前,必须换上全套特制的无尘服,并经过严格的风淋除尘程序。

  踏出气动闸门之后,空气里就只剩下特有的洁净室气味,以及微弱的机器嗡鸣。

  透过观察窗,可以看到一批完成抛光和清洗、表面光洁如镜的硅片,正被机械臂精准地送入沉积区,进行着薄膜生长。

  “常院士,这是我们最基础的环节之一,硅片的制备和初始加工。”黄炜的声音透过通讯系统传来,“经过表面处理、清洗、沉积必要的镀膜作业之后,晶圆才会进入后面的光罩制作……也就是光刻环节。”

  黄炜一边介绍流程,一边注视着自动化流程的完成。

  正巧,一个批次的晶圆刚刚完成镀膜,被机械臂取出。

  他示意操作员取出一片样品,隔着专用视窗展示给常浩南。

  晶圆表面反射着顶灯的冷光,呈现出均匀的光泽。

  常浩南俯身盯着晶圆的尺寸和边缘,伸手隔着玻璃比划了一下,问道:“黄总,这一批是200mm(8英寸)?”

  “是的,常院士。”黄炜肯定道,“这是我们目前量产的主力尺寸。”

  旁边的吴明翰适时补充:“12英寸(300mm)的产线还在备产阶段,主要是……现在公司的资金和顶尖工程资源,绝大部分都集中投入到光刻环节的突破上,尤其是利用现有深紫外(duv)设备攻坚更先进制程的研发。”

  “不过从技术储备的角度,我们并不落后太多,一旦资金或关键设备到位,提速会很快。”

  常浩南微微颔首,没有多言,示意继续前行。

  “后面就是光罩制作区了。”黄炜一边引路一边介绍,“把ic设计图用电子束刻在石英片上,就能制成光罩,这个东西类似照相底片,刚才生产的晶圆就是相片纸,基本原理和洗照片差不多。”

  虽然不完全准确,但足够生动,哪怕是外行也很容易理解。

  “这里是我们给客户提供代工服务的主力区域。”黄炜指着几台正在运行的光刻机介绍:“除了满足国内ic设计公司的需求之外,我们也承接像德州仪器等国际厂商的部分订单。”

  常浩南微微露出惊讶的表情,只是隔着面罩展现不出来。

  “还有外国订单?”

  “嗯,产品主要面向国内和中亚市场。”吴明翰解释道,“中低水平制程这块,我们流片的良率和速度都有优势。”

  常浩南突然意识到,如今半导体产业的情况,要远比自己过去那条时间线上复杂得多。

  介绍间,黄炜注意到常浩南的目光并未停留在运行中的量产设备上,而是投向了不远处一个被透明围挡隔开的区域。

  那里同样属于光罩制作区,但周围聚集的技术人员更多,氛围也更显紧张和专注。

  “常院士,那边是我们的研发攻坚区。”黄炜解释道,“您也看到了,生产和研发在光刻这个环节,很多时候是共用同一条线,设备和技术是互通的。”

  “那边就是在尝试双重甚至四重曝光技术,目标是用我们现有的nxt:1950i duv光刻机,向更小的特征尺寸发起冲击。”

  常浩南的目光转向吴明翰:“这就是之前您提到的,良品率最低、成本最高的环节?”

  吴明翰脸上浮现出复杂的神情。

  他没有直接回答,而是引着常浩南走向该区域旁边一个专门的陈列台。

  “常院士请这边看。”

  陈列台上并非闪闪发光的成品芯片,而是整齐摆放着数十片晶圆。

  乍看之下,它们与刚才看到的完成镀膜的晶圆似乎并无太大区别。

  常浩南转向对方,等待着更进一步的说明。

  吴明翰拿起靠近他的一片晶圆,指着上面几处微小的、肉眼几乎难以分辨的重影区域:“这就是‘套刻误差’导致的报废。在多重曝光中,第一次曝光形成的图案和第二次曝光需要精确对准。哪怕只有几纳米的偏差,迭加后整个电路就失效了。”

  他放下这片,又拿起另一片,指着表面某些线条粗细明显不均的地方:

  “这是‘关键尺寸偏差’,多次曝光、显影、刻蚀的累积效应,导致不同区域的线宽无法保持一致,超出了规格极限。”

  

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